CMP工藝介紹及用濾芯
CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化學機械拋光—是一個化學腐蝕和機械摩擦的結合。CMP技術所采用的設備及消耗品包括：拋光機、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設備等。拋光機、拋光漿料和拋光墊是CMP工藝的3大關鍵要素，其性能和相互匹配決定CMP能達到的表面平整水平。其工藝過程中拋光漿料顆粒控制在0.5μm以內，恒水公司提供的系列過濾器及折疊濾芯可提供您有效的過濾解決方案。